产品展示 / products 您的位置:网站首页 > 产品展示 > 电子元器件检测 > 切片测试 > 三离子束切片测试
三离子束切片测试

三离子束切片测试

简要描述:三离子束切片测试的切割原理是一种物理溅射过程,通过高能惰性气体离子(通常为氩离子)轰击样品表面,逐层剥离材料原子,从而获得超平整、无机械应力的截面。

所属分类:切片测试

更新时间:2026-02-04

厂商性质:其他

详情介绍
品牌优尔鸿信

优尔鸿信,多年从事PCB板及电子零组件检测与失效分析服务,实验室工程师熟悉PCB板SMT和DHP工艺流程,结合超声波C-SAM、3DX-RAY、三离子束切片测试、FIB、扫描电镜等设备,可开展PCB板、电子元器件、PCBA的一系列质量检测与失效分析。

三离子束切片测试的切割原理是一种物理溅射过程,通过高能惰性气体离子(通常为氩离子)轰击样品表面,逐层剥离材料原子,从而获得超平整、无机械应力的截面。

适用场景:

多材料适用性

适用于硬质、软质、多孔、热敏感、脆性、非均质复合等多种材料。

几乎涵盖所有常见检测样品材质,包括金属、聚合物、纤维、生物组织等。

高质量截面制备

使用三离子束技术,切割截面平整、损伤小,适用于:

SEM分析(EDS、WDS、EBSD、Auger)

原子力显微镜(AFM)分析

TEM样品前处理

主要用途

样品前处理

为SEM、AFM、EBSD等微区分析设备提供高质量、无损伤的平整截面。

适用于材料科学、电子元器件、生物组织、复合材料等多领域检测。

高通量实验室应用

支持多样品并行处理,适合批量样品制备。

特殊样品处理

热敏感样品(如橡胶、聚合物、含水样品)的低温制备。

脆性、多孔或非均质材料的无损切割。

 主要用途

材料科学与失效分析:金属、陶瓷、复合材料截面的EBSD、EDS分析;焊点、涂层、界面的结构观察。

电子半导体行业:IC芯片、金线接点、TSV通孔的高质量截面制备,用于形貌测量和成分分析。

地质与考古样品:岩石、粘土、多孔矿物等脆性、非均质样品的无损切割。

通用前处理切片:为各类未知或复杂成分的客户样品,提供一种标准化、高质量的通用截面制备方案。

三离子束切片测试




留言询价

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
上一篇:通信电子特性阻抗测试
下一篇:没有了